EMI屏蔽真空镀膜机
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EMI屏蔽真空镀膜机

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PVD真空镀膜机

磁控溅射镀膜机

PVD真空镀膜设备

屏蔽膜真空镀膜机

EMI屏蔽PVD镀膜机

EMI屏蔽真空镀膜机

EMI涂层真空镀膜机

屏蔽涂层真空镀膜机

功能型真空镀膜设备

磁控蒸发双用镀膜机

PVD磁控溅射镀膜机

EMI屏蔽真空电镀设备

EMI屏蔽真空镀膜设备

EMI屏蔽真空镀膜机 详情介绍"DINGYI" Details Of Product Introduction

功能性真空镀膜设备 - 磁控溅射镀膜机 - EMI屏蔽真空镀膜机


 

设备介绍
电磁干扰(EMI)屏蔽金属器的应用。
其他需要电磁干扰屏蔽功能的行业
基板材料。ABS,PC,PC+ABS,塑料等。


 

EMI屏蔽膜特性
.薄膜厚度:1.5 ~ 3微米,取决于要求。
.薄膜电阻。(欧姆)优于0.5Ω
.附着力:3M810胶带>5B
.EMI 屏蔽膜的涂覆工艺
.直流溅射不锈钢
.热蒸发法沉积铜
.直流溅射不锈钢,完全覆盖在Cu膜层上。


 

功能型镀膜设备溅射蒸发镀膜机是专门为EMI屏蔽薄膜沉积而设计的,广泛用于电信设备、计算机、笔记本电脑、消费电子、家用电器、手机外壳、笔记本电脑外壳、雷达测速仪器、汽车视频部件、航空航天、军事项目。


 

设备特点
1) 双门结构和快速的泵送速度,实现高生产率
2)用户友好的触摸屏面板和PLC控制
3)用户友好的软件程序设计,生产稳定,质量高。
4) 溅射靶材利用率高,确保生产成本低。
5)良好的均匀性&优秀的附着力
6)先进的设计理念,以更好的性能来提高生产效率和质量率。
7) 离子源装置用于等离子体清洗和表面活性处理,提高附着力。
8) 通过Polycold-水蒸气低温泵,高真空抽气时间缩短25%至75%。在加工过程中降低水蒸气分压,以获得更高的薄膜质量,更好的附着力和更多的可重复的沉积。


致诚真空科技磁控溅射镀膜机

设备主要参数
真空室尺寸: Φ1000mm 、Φ1200mm 、Φ1400mm 、Φ1600mm 、Φ1800mm  、 Φ2000mm
真空系统: 旋片泵+罗茨泵+扩散泵+维持泵(或选分子泵、深冷泵、深冷系统)
极限真空: 6x10-4Pa
工作转动方式 多轴行星式公自转、变频调速(可控可调)
冷却方式 水冷却循环方式,另配工业冷却水塔或工业冷水机(制冷机)或深冷系统。(客户提供)
控制方式 PLC+触摸屏操作或计算机控制,手动、半自动、自动方式
供给指标 气压0.5-0.8MPa、水温≤25℃、水压≥0.2MPa
报警及保护 对泵和靶等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警、并执行相应保护措施及电气联锁功能
抽气时间:: 空载大气抽至5x10-3Pa,>13min
备注: 以上设备参数仅做参考,具体均按客户实际工艺要求设计定做

 


 

涂层案例


 

致诚科技


可根据用户要求设计各种规格型号的真空镀膜机。


真空机组及电控系统也可根据用户要求进行设计配置。



致诚科技国际领先水平的镀膜应用解决方案:提供设备、材料、加工、技术、项目配套等系统服务


 

致诚真空镀膜设备有:蒸发镀膜机、磁控溅射镀膜机 、磁控蒸发两用镀膜机 、多弧离子镀膜机 中频离子镀膜机 、AF镀膜机、超硬质涂层镀膜机、卷绕式镀膜机、PVD镀膜线、镀膜项目配套总成。



PVD工艺技术采用在真空条件下,通过蒸馏或溅射等方式在工件表面沉积各种金属和非金属薄膜。



致诚科技根据产品的特性匹配最佳的镀膜工艺方案。


致诚真空镀膜机祖设备在行业优势特点所在:专业、诚信、可靠。

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